Produk

Kita sinau elektroda film nanokarbon nitrogen-doped kanthi konsentrasi nitrogen luwih murah tinimbang 10,9 ing% sing dibentuk kanthi metode sputtering magnetron sing ora seimbang (UBM).Isi sp(3) ing film nanokarbon sputtering UBM-doped nitrogen (film N-UBM) rada mundhak kanthi nambah konsentrasi nitrogen.Ikatan kaya grafit sing ngandhut nitrogen mudhun lan ikatan kaya piridin mundhak kanthi nambah konsentrasi nitrogen.Film N-UBM nduweni permukaan sing alus banget kanthi kekasaran rata-rata 0,1 nganti 0,3 nm, sing meh ora gumantung saka konsentrasi nitrogen.Elektroda film N-UBM nuduhake jendhela potensial luwih amba (4,1 V) saka elektroda film murni-UBM (3,9 V) amarga nambah sethitik ing isi sp (3).Aktivitas electrocatalytic tambah karo nambah konsentrasi nitrogen, suggest sing electroactivity maksimum nalika konsentrasi nitrogen watara 10,9 ing%, kang dikonfirmasi dening pamisahan puncak Fe(CN)6(4-).Potensial reduksi hidrogen peroksida (H2O2) ing elektroda film N-UBM bergeser kira-kira 0,1 V, lan arus puncak H2O2 mundhak kira-kira 4 kali.